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  • 霍尔离子源
  • 产品特性:

    设计先进,结构简单实用,易于安装维护,运行成本低廉,离子束流大,达到等离子体处理和辅助的要求,可与多种沉积系统匹配,成为高端镀膜机优秀的配套单元。


  • 产品描述
  • 应用领域

    有效清除工件表面水分子和碳氢化合物;改善薄膜生长、优化薄膜结构;增加薄膜的一致性和重复性;


    光学镀膜、溅射镀膜、阴极弧离子镀等真空镀膜过程中的离子束辅助镀膜工艺。可完成曾透膜、高反镜、在线清洗、类金刚石膜层等。